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虽然胜利使斯坎德培成为全体阿尔巴尼亚人的民族英雄，但他只实际控制阿尔巴尼亚中部地区；当时北部在敌对的威尼斯共和国手中，南部则被土耳其人稳固地坚守。1451年斯坎德培为获得援助及粮食，奉义大利南部的那不勒斯王国为宗主国， 并在日后参加了那不勒斯远征 ，及时拯救了宗主国王那不勒斯的斐迪南。1463年斯坎德培成为教宗庇护二世号召十字军的首席将军，但因为教宗突然过世而使十字军解散。1463年威土战争爆发时，他选择与敌对的威尼斯和解，共同对抗强大十数倍的土耳其军，直至1468年过世为止。
斯坎德培出生于克鲁雅的一个拜占庭帝国贵族家庭，其父是伊庇鲁斯地区众多反抗奥斯曼帝国苏丹巴耶塞特一世的小领主之一。当抵抗失败后，其父被迫臣服，并交出包括乔治·卡斯特里奥蒂在内的四个儿子作为人质。
乔治被迫改信伊斯兰教后，在阿德里安堡接受了军事训练，成为奥斯曼帝国的一位统帅，在获得一系列胜利后，他被封为“阿纳夫特鲁·伊斯坎德 贝伊”（Arnavutlu İskender Bey），意为“阿尔巴尼亚的亚历山大老爷”，将其与亚历山大大帝相提并论。该称号在阿尔巴尼亚语中为“Skënderbe shqiptari”，其后成为他最常用的名字“斯坎德培”。
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三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演「清洁剂」的角色，不过这类清洁剂是气态，而非液态。
在半导体中，薄膜制程的主要设备是「化学气相沉积」（CVD）机台，会在晶圆片上长出薄膜。薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金属材料，但这些材料不仅会附著在晶片上，也附著在反应室内的墙壁上，内墙上的二氧化矽累积至相当数量，就会在反应室内形成微尘粒子（Particle），影响晶圆片的良率。
因此每台CVD机台在处理过规定数量的晶圆片后，就要使用含氟的气体清洗，以去除内壁上的矽化物质。不过NF3与CF4、C2F6等气体都属于多氟碳化物，是造成温室效应的来源之一。半导体厂为了降低排气对温室效应的影响，在排放含氟废气前，会以高温（摄氏700、800度才进行）将气体由有机转分解为无机，才不会破坏臭氧层。
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高木美帆，北海道中川郡幕别町出身，日本女子速度滑冰及足球运动员，身高163cm。目前就读于幕别町立礼内中学。主要擅长1500m，也有参与500m以及3000m的比赛。
* 一家之组成：父、母、哥哥、姐姐及自己。哥哥及姐姐高木菜那都是竞速滑冰选手。受其影响下在5岁开始投入速度滑冰运动。
* 7岁开始踢足球，在就读中学时与男子足球队员混打，并经常出任先发前锋。更曾经参与U-15女子准国家队级训练营。
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