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CMP技术早期主要应用于光学镜片的抛光和晶圆的抛光。

20世纪70年代，多层金属化技术被引入到集成电路制造工艺中，此技术使芯片的垂直空间得到有效的利用，并提高了器件的集成度。但这项技术使得硅片表面不平整度加剧，由此引发的一系列问题（如引起光刻胶厚度不均进而导致光刻受限）严重影响了大规模集成电路（LSI）的发展。针对这一问题，业界先后开发了多种平坦化技术，主要有反刻、玻璃回流、旋涂膜层等，但效果并不理想。80年代末，IBM公司将CMP技术进行了发展使之应用于硅片的平坦化，其在表面平坦化上的效果较传统的平坦化技术有了极大的改善，从而使之成为了大规模集成电路制造中有关键地位的平坦化技术。

化学机械平坦化是表面全局平坦化技术中的一种，既可以认为是化学增强型机械抛光也可以认为是机械增强型湿法化学刻蚀。该工艺使用具有研磨性和腐蚀性的磨料，并配合使用抛光垫和支撑环。抛光垫的尺寸通常比硅片要大。抛光垫和硅片被一个可活动的抛光头压在一起，而塑料的支撑环则用于保持硅片的位置。硅片和抛光垫同时转动（通常是以相反的方向转），但是它们的中心并不重合。在这个过程中硅片表面的材料和不规则结构都被除去，从而达到平坦化的目的。平面化后的硅片表面使得干式刻蚀中的图样的成型更加容易。平滑的硅片表面还使得使用更小的金属图样成为可能，从而能够提高集成度。

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尤克奇在克罗地亚球队奥西耶克开始职业足球生涯，并前后效力于斯本尼克、比利时球队洛克伦和日本球队广岛三箭。

2009年初，他和广岛三箭解约，回到克罗地亚加盟NK Croatia Sesvete。2010年2月，尤克奇加盟中超球队青岛中能成为球队的中场主力，2010年赛季中超联赛出场27次攻进4球，助攻8次。

2011年1月，尤克奇以40万美元加盟中甲球队重庆力帆。

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谢讷河畔迪亚朗（P625）面积P2046，位于法国诺曼底大区卡尔瓦多斯省，该省份为法国西北部沿海省份，北濒大西洋英吉利海峡，东北与滨海塞纳省以海上边界相接，东临厄尔省，南至奥恩省，西与芒什省接壤。

与谢讷河畔迪亚朗接壤的市镇（或旧市镇、城区）包括：P47。

谢讷河畔迪亚朗的时区为UTC+01:00、UTC+02:00（夏令时）。

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