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2020年作为合伙人加入智能家居企业Wyze Labs，任副总裁，负责订购类软件服务，包括Home Monitoring Service，和CamPlus等。

《易学易用Internet》，电子科技大学出版社，1999, ISBN 7-81043-884-0

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三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演「清洁剂」的角色，不过这类清洁剂是气态，而非液态。

在半导体中，薄膜制程的主要设备是「化学气相沉积」（CVD）机台，会在晶圆片上长出薄膜。薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金属材料，但这些材料不仅会附著在晶片上，也附著在反应室内的墙壁上，内墙上的二氧化矽累积至相当数量，就会在反应室内形成微尘粒子（Particle），影响晶圆片的良率。

因此每台CVD机台在处理过规定数量的晶圆片后，就要使用含氟的气体清洗，以去除内壁上的矽化物质。不过NF3与CF4、C2F6等气体都属于多氟碳化物，是造成温室效应的来源之一。半导体厂为了降低排气对温室效应的影响，在排放含氟废气前，会以高温（摄氏700、800度才进行）将气体由有机转分解为无机，才不会破坏臭氧层。

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日本検察庁法规定检察厅 (検察庁) 为法务省的特别の机関（法律14条）。检察厅分为最高检察厅、高等检察厅、地方检察厅及区检察厅，分别对应最高裁判所、高等裁判所、地方裁判所及简易裁判所（检察厅法2条1项）。

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