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漳河是长江支流沮漳河的东支，源于荆山，每逢暴雨常爆发山洪。而漳河东岸与汉江之间的丘陵岗地则缺水苦旱。1953年至1957年，湖北省水利厅对沮漳河进行了勘测。1957年11月，湖北省长张体学提出要兴建漳河水库。1958年5月初正式确定兴建漳河水库。7月1日，观音寺导流隧洞开始施工。
漳河水库由观音寺和鸡公尖两大库区组成，枢纽工程有4座大坝（观音寺、林家港、王家湾、鸡公尖）、1座副坝（10千米长）、4处溢洪道（陈家冲、马头砦正常溢洪道，崔家沟、王家湾非常溢洪道）和6座引水涵闸。其中观音寺大坝拦截漳河，为主坝，1958年7月动工兴建，1964年10月基本建成，最大坝高66.5米，长630米，库容8亿多立方米。鸡公尖大坝拦截漳河支流育溪河，1958年冬动工兴建，1965年8月基本建成，最大坝高58米，长1950米，库容12亿立方米。两大水库群之间，靠清静庵、黄家磅、姚家冲三段明槽联通过水。三段明槽凿开三座山岗而成，全长5500米。8年间国家总投资9140万元，投工5226万个，完成土石方4119万立方米。共建水电站8座，总装机9630千瓦。
水库建设期间，最多时有民工13.30万人，有200多人死亡，发生重大事故两次：1958年12月13日鸡公尖工地发生火灾致20人被烧伤，28人被烧死，后建有鸡公尖烈士陵园；1959年3月29日因驻地到观音寺工地的二号桥垮桥致571人落水，159人不幸身亡，后建有观音寺烈士陵园。
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三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演「清洁剂」的角色，不过这类清洁剂是气态，而非液态。
在半导体中，薄膜制程的主要设备是「化学气相沉积」（CVD）机台，会在晶圆片上长出薄膜。薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金属材料，但这些材料不仅会附著在晶片上，也附著在反应室内的墙壁上，内墙上的二氧化矽累积至相当数量，就会在反应室内形成微尘粒子（Particle），影响晶圆片的良率。
因此每台CVD机台在处理过规定数量的晶圆片后，就要使用含氟的气体清洗，以去除内壁上的矽化物质。不过NF3与CF4、C2F6等气体都属于多氟碳化物，是造成温室效应的来源之一。半导体厂为了降低排气对温室效应的影响，在排放含氟废气前，会以高温（摄氏700、800度才进行）将气体由有机转分解为无机，才不会破坏臭氧层。
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